一、超宽超窄矩形带通滤光片的设计（论文文献综述）
张立宇[1]（2021）在《基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究》文中研究表明为了满足航天遥感技术集成化、微型化和更多光谱通道的发展需求,结构紧凑且分光能力更强的多通道滤光片应运而生,各种多通道滤光片制备技术也不断问世。但现有的多通道滤光片光谱范围大多集中于可见光与近红外波段,而针对中红外波段的多通道滤光片则鲜有报道。并且受限于制备技术,多通道滤光片的光谱性能与微型化程度也有待提高。本文采用集光刻、镀膜与剥离工艺于一体的组合镀膜技术,进行3.55-3.75μm与4.85-4.95μm中红外集成双通道滤光片的研制。研究内容包括双通道滤光片总体研制方案的设计,双通道滤光片的膜系设计,负性厚胶光刻优化实验,双通道滤光片的制备、测试与分析。具体研究成果总结如下:（1）薄膜材料优选与镀膜工艺优化:选取性能优良、应力匹配良好的Ge与ZnS作为中红外双通道滤光片高低折射率膜料,并分别对两种膜料进行单层膜工艺实验,获得了镀膜工艺的稳定区间与最优工艺下的薄膜色散关系。（2）带通滤光片的膜系设计与优化:采用多腔F-P滤光片的基础膜系与局部优化方式,进行3.55-3.75μm与4.85-4.95μm带通滤光片的膜系设计与优化。获得了通带透射率接近99.9%、截止度为OD4、矩形度良好、通带半宽度符合要求的膜系设计结果,并确定了光电极值监控法的监控波长。（3）负性厚胶光刻优化实验:为了使膜层厚度较大的中红外带通滤光片成功剥离,选取了合适的负性厚胶进行了光刻优化实验,通过优化各工艺阶段的工艺参数,得到了光刻胶的理想“倒八字”结构。（4）集成双通道滤光片的制备:通过两次光刻、两次镀膜与两次剥离工艺,成功制备了 3.55-3.75μm与4.85-4.95μm集成双通道滤光片,验证了工艺兼容性。（5）双通道滤光片性能测试与分析:对双通道滤光片光谱性能进行测试,其中3.55-3.75μm带通滤光片通带平均透过率为83.8%,通带半宽度为274nm;4.85-4.95μm带通滤光片通带平均透过率为83.5%,通带半宽度为246nm;4.0-4.6μm波段截止深度为OD=3。并利用膜层厚度反演法进行透射率误差仿真分析,分析结果表明通带透射率降低的主要原因是由于间隔层的厚度误差导致F-P腔错位,通带波纹的产生是由于膜系匹配层的镀制误差。对双通道滤光片的接缝精度进行测量,得到双通道滤光片的光谱无效区为4.5μm。双通道滤光片的测试结果满足了预期指标。本文所制备的集成双通道滤光片阵列结构紧凑、光谱性能优良、稳定性良好,为多通道滤光片的制备提供了一种新的技术途径。
陈喜文[2]（2021）在《3D滤光片的设计与制备》文中认为在3D成像技术的系统中,滤光片作为光接收模组中重要的一部分,用来过滤掉环境中的杂光,只允许成像系统工作的波段光通过,提高了成像质量。而该滤光片除了要求良好的光学性能外,还得具备一定的抗恶劣环境性能,同时由于是企业生产,要能实现量产。本文针对项目的需求,充分利用在企业设备齐全的优势,基于光学薄膜设计理论,用TFCalc镀膜设计软件来进行设计与制备。选取了合适的镀膜材料,企业生产涉及到成本问题,因此对比市场上常见的镀膜材料包括高折射率的TiO2和Ta2O5等、低折射率的MgF2和SiO2等,选择了折射率差比较大的Ta2O5和SiO2的组合。本文的创新点在膜系设计方面,利用拆分原理,基础膜系结构选用的是在前表面镀制基于法布里-珀珞窄带的膜系,其结构为（Air/LHL2HL（HL8HL）4HL4HLHL/Sub）,后表面镀制长波通截止膜系,其结构为（Sub/0.5HL0.5H）S/Air),来消除前表面产生的旁通带,并且两面的第一层都插入SiO2作为保护层,将两个表面分别进行优化后前表面31层、后表面24层,再进行两面叠加模拟,经过TFCalc软件优化后,成功设计出927～963nm波段透过率平均值大于97%,350～910nm和977～1100nm波段平均透过率小于0.05%的膜系。根据光驰OTFC-1550的设备性能,采用电子束蒸发沉积、离子源辅助方法,设置Ta2O5、SiO2沉积速率分别为3.5?/sec、12?/sec,基底温度设为130℃,真空度设为为4×10-4Pa等工艺参数,制定该样品的生产流程,提高良率与效率,成功生产出一批样品后,对样品进行测试。镀制的成品通过了外观、光学性能、可靠性性能检测,结果显示达到了技术指标要求,但仍存在不足,实测光学性能与理论光学性能的误差分析出有6个方面;外观不良是因为基片清洗步骤和机台清洗步骤的问题;高温高湿后透过率会下降,则再次加大离子源功率生产后进行试验,根据透过率测试结果,表明了加大离子源功率使膜层更紧致、隔绝水汽的方案可行。
段营部[3]（2020）在《多通道窄带滤光片的设计与制备技术研究》文中研究表明多光谱、超光谱成像兼具成像和光谱探测的优势,被广泛应用在遥感、水文气象、医疗和军事目标侦察等领域。多通道窄带滤光片是多光谱成像系统的核心分光元件,因此研发集成化多通道窄带滤光片是提高多光谱成像系统性能指标的主要途径。本文采用纳米压印法和组合掩模法制备了10×10阵列多通道窄带滤光片,研究了中心波长渐变膜系设计、材料优选和工艺优化、腔层调控以及测试验证等。主要研究结果如下:（1）F-P干涉滤光片优化设计:基于F-P滤光原理,在可见光波段和近红外波段设计中心波长渐变的窄带滤光膜系,其膜系结构分别为G|（LH）5（4L）（HL）5|A和G|（LH）6（4L）（HL）6|A,并且在单通道的基础上设计了10个光谱通道,单通道平均峰值透射率大于90%,平均通带半宽度约10nm。（2）薄膜材料优选和工艺优化:对镀膜材料进行优选,研究薄膜材料镀制工艺并且获得最佳工艺参数,设计薄膜镀制所需的特殊工装夹具,对设计所得膜系进行试验并且完成10×10阵列窄带滤光片的制备。（3）腔层厚度非连续调控:设计并研制了5×5和10×10阵列的压印硬模具,转移到PDMS软模具上,优选NOA73紫外固化光学胶为间隔层薄膜材料,通过实验确定最佳工艺参数,并且完成间隔层薄膜的光学特性测试和压印图形转移。（4）测试验证:设计并搭建显微测试系统对样片进行测试,在550～650nm波段内,10×10阵列窄带滤光片通道平均峰值透射率为94%,通带半宽度平均为9.7nm,截止透射率小于1%;在650～750nm波段内,平均峰值透射率为94.7%,通带半宽度均为10nm,截止透射率小于1%;近红外区峰值透射率为88.6%,峰值半宽度为12nm,截止透射率小于3%,测试结果符合预期指标。根据压印样片光谱测试结果,表明纳米压印制备窄带滤光片方案可行。研究发现,采用单一晶振监控致使薄膜厚度误差累积放大、加工的硬模具表面粗糙度较大和硬模具表面球形化严重是影响窄带峰值透射率等指标的主要原因。因此,误差控制和工艺优化将是下一步研究的方向。
来邻[4]（2018）在《基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究》文中进行了进一步梳理大曲率光学元件在光学系统中的应用日益广泛,但相应的薄膜沉积技术却仍存在缺陷。原子层沉积（Atomic layer deposition,简称ALD）作为一种新型沉积方式,凭借独特的自限制反应,在大曲率元件表面薄膜制备领域中具有超过常规镀膜方式的潜力。ALD达到高均匀性的要点是自限制反应达到饱和。影响ALD自限制反应的因素有温度、反应物浓度、活化能等,实验时对温度和基底进行了相应控制,因此与基底表面接触的前驱体浓度将成为影响ALD自限制反应达到饱和的重要因素。基于此,本文开展了具体的仿真和实验,主要研究内容如下:仿真部分对实验使用的原子层沉积设备TFS-200进行了分析,确定了模拟计算的主要部分,并根据分析结果进行仿真模型的建立。在进行流体仿真前,模型需要进行网格划分,流体仿真将以划分生成的网格作为计算的最小区域,以设定的初始状态为计算初值,从反应腔进气口与出气口开始迭代计算,得到前驱体的浓度分布和交换过程。根据仿真结果得出,反应腔中前驱体在流动过程中并非均匀分布,反应腔的不同区域存在一定差异。对比反应腔内前驱体的浓度分布和流动过程,得出了浓度变化最稳定的区域作为优化沉积区域,剩余区域为非优化区域。同时还仿真了10mm半球表面前驱体的流动状态,分析了大曲率表面对均匀性的影响。实验部分开展了对优化区域科学性的实验验证。初次制备后对薄膜进行折射率测量,用于后续厚度计算。之后,使用相同基底在不同区域进行两种材料的制备,对薄膜进行生长速率和非均匀性的计算,非均匀性的高低作为评价实验区域优劣的标准。实验结果表明:最佳优化区域内制备的Al2O3和TiO2薄膜相比非优化区域在非均匀性方面有明显下降,非均匀性的下降在沉积高度优化上更为明显。非均匀性的下降表明了优化沉积区域的科学性,测量的薄膜折射率和生长速率为后续制备多层膜奠定了基础。根据单层膜实验的测量结果,在平板基板上进行了单点减反射膜和宽带减反射膜的制备。通过膜系的沉积探究ALD多层膜的过渡区生长规律和生长固定厚度薄膜的方法。利用平板表面生长多层膜的规律在半球基底表面进行相同膜系的制备,验证了原子层沉积在半球基底表面进行复杂膜系的可行性,为后续研究提供了良好基础。
侯海港[5]（2017）在《检测CO2气体用窄带滤光片设计与制备》文中认为窄带滤光片是指相对带宽（半宽度与通带中心波长之比）小于0.05的滤光片,其作用对特定波段的光谱进行选择,使特定波段的光通过,截止其余波段的光。目前它主要应用于气体探测器、医疗等精密光学系统。近年来温室效应愈发严重,温室气体使全球地表平均气温逐渐升高,对气候变化预测的难度进一步加大,有必要准确掌握大气中CO2浓度和空间分布。同时,在冶金、家电、农业、医疗、环保等方面,都需要对CO2进行实时的浓度检测与控制,且许多情况下应用环境十分恶劣。因此,开发出矩形度好、窄带透射率高、半高宽窄、截止带宽、光学性能优良的检测CO2用窄带滤光片,以及稳定性和选择性好、小型化、便携式灵敏度高的CO2气体探测器,具有很高的实用价值。在窄带滤光片设计中,为了获得较好性能的窄带滤光片,一般会调整以及优化一些设计参数,但制备结果往往会在一定程度上与优化后的设计不同。利用光学薄膜设计软件Essential Macleod,对窄带滤光片膜系中的高或低折射率间隔层、反射层层数、干涉级次和腔数进行模拟实验,揭示其对窄带滤光片敏感度和光学特性的影响关系,并得到其影响规律。针对二氧化碳（CO2）气体在4.26μm处的特征吸收,设计并制备了检测CO2用单通道窄带滤光片。利用相对敏感度分析和法布里-珀罗滤光片设计原理相结合的方法,使4.26μm透射窄带具有高截止深度、透射率、矩形度和低敏感度;同时运用叠加不同中心波长的多层高反射周期膜的方法以展宽截止带带宽。以单晶Si为基片,Ge和SiO为高低折射率材料,分别采用电子束和电阻加热物理气相沉积方法;制备出通带4240?4280 nm波段平均透过率T≥80%,半高宽为100±2 nm,截止区1500?4180 nm和4350?8000 nm波段平均透过率T<0.05%,截止深度达5×10-4以下,薄膜层数为62层,具有超宽截止带的4.26μm窄带滤光片。CO2特征吸收峰并不仅在4.26μm处,同时在2.78μm和14.95μm处均具有很强的吸收峰,由此设计出检测CO2用双通道窄带滤光片,2000?2700 nm、3850?4100 nm、4400?8500nm波段平均透射率分别为T≈0.22%、T≈0.11%和T≈0.02%,2750?2800 nm波段平均透过率T≈99.13%,半宽度约为74±2 nm,4200?4300 nm波段平均透过率T≈99.60%,半宽度约为148±2 nm,膜层共55层。同时,对两组膜系进行设计及制备过程中误差分析,验证了上述检测CO2用双通道窄带滤光片在制备过程中的可行性。
张剑锋,郭云,杨生胜[6]（2016）在《电子/质子综合辐照带通滤光片的性能退化机理研究》文中认为随着航天器的寿命从5年增加到8年以上,光学薄膜在空间飞行中经受的带电粒子辐照时间更长,光学薄膜更容易受到损伤,因此对光学薄膜抗辐射性能要求也不断提高。开展了光学薄膜带通滤光片电子/质子综合辐照实验,研究电子/质子综合辐照作用下带通滤光片的性能退化规律,借助于XPS和AFM等表面分析技术对带通滤光片微观分析,研究带通滤光片在电子/质子综合辐照下的退化机理。为带通滤光片空间适应性研究提供基础,同时为带通滤光片工艺设计与可靠性提供技术支撑。
王增智[7]（2016）在《医用光学滤光片与可见光波段高反射膜的设计与制备工艺》文中认为光学功能薄膜广泛应用于光电产业、国防、环境科学等众多领域,市场前景广阔。本文针对窄带滤光片和高反射膜两种光学功能薄膜进行了研究,通过对膜系设计以及对制备工艺的研究与优化,取得了一些有价值的研究成果。本文的主要研究内容和成果如下:1.针对于医用窄带滤光片,基于法布里-铂罗标准具带通滤光片的基本结构形式,并辅以TFCalc膜系设计软件,设计了符合使用要求（530±20nm@T>92%,截止带透过率小于0.5%）的窄带滤光片,并采用射频离子束溅射镀膜技术成功制备了符合要求的窄带滤光片。2.针对于可见光波段的高反射膜,研究了多个多层介质高反射膜堆叠加使用设计高反射膜系,并辅以TFCalc膜系设计软件设计了符合使用要求（入射角度24°、R>92%）的可见光波段（400750nm）高反射膜系。利用离子束辅助电子枪热蒸发镀膜技术,研究了不同Tooling值及不同高折射率材料对于高反射膜光学性能的影响,制备出了符合设计要求的高反射膜。
朱华新,王彤彤,高劲松,刘桂林,李帅[8]（2014）在《宽通带宽截止带通滤光片研究》文中研究说明本文以K9为基底设计了一种宽通带宽截止带通滤光片,即:540750 nm为通带区域,400520 nm、7701100 nm为截止带区域,为实现这一特性,在K9基底的两侧分别设置长波通和短波通组合膜系,分别用于截止400520 nm和7701100 nm,而两者通带交集为540750 nm,膜层总数为48层,膜层总厚度达5.03μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对镀有该组合膜的样品透过率进行测量,测试结果表明540750 nm通带平均透过率达到了85.82%,通带相对半宽度达221 nm,400520 nm和7701100 nm的截止度分别达到1.36%和1.27%,实验结果与理论设计基本吻合,达到了宽通带宽截止的目标,环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该组合膜系可以应用于可靠性要求较高的环境中。
张军强,王笑夷,张新洁,颜昌翔,张滨[9]（2014）在《光锥角对窄带滤光片透射率的影响及补偿方法》文中提出全介质膜窄带滤光片因具有优良的光学性能、较强的工艺性和空间环境适应性被广泛应用于空间多光谱遥感仪器中,但锥光束入射导致的中心波长漂移问题严重影响此类窄带滤光片的光谱选择性能。为了研究光锥角对窄带滤光片透射率特性的影响,设计了非规整型全介质膜窄带滤光片,分析了高斯光束倾斜入射窄带滤光片导致透射率的变化,建立了非均匀照度下锥光束正入射时窄带滤光片等效透射率的求解模型,定量求解了等效透射率及中心波长漂移量,并对理论模型进行了实验验证。结果表明,锥光束正入射对窄带滤光片透射率的影响主要表现为中心波长的蓝移;在镀膜工艺相对稳定的基础上,理论模型的等效透射率预测精度优于中心波长的0.15%。所以,可以使用等效透射率求解模型定量计算锥光束正入射导致窄带滤光片透射率的变化,并利用中心波长漂移量修正后的设计数据指导滤光片镀膜,进而实现窄带滤光片的高精度光谱选择,这为解决介质膜窄带滤光片因锥光束入射导致的中心波长漂移问题提供了新的技术途径。
贾钰超[10]（2013）在《3.31μm窄带滤光片的设计与制备》文中研究说明本文主要针对甲烷气体探测用的3.31μm窄带滤光片进行了膜系设计和薄膜制备。因为窄带滤光片设计中的一些参数会对其性能产生影响,为了揭示它们之间的变化关系,进行了窄带滤光片设计中通带半宽度、矩形度和陡度的影响因素研究,得到了一些有意义的数值模拟结果和结论。在此基础上,利用薄膜光学理论在膜系设计软件Essential Macleod中完成了基础膜系的设计和优化。根据光驰OTFC-1300真空镀膜机的性能,选定可行的基底材料和膜层材料以及相应的工艺参数,成功制备出符合设计指标的窄带滤光片,并对其进行了光学性能测试和机械性能测试,结果表明可以达到使用要求。对膜系设计和薄膜制备过程中出现的问题和得到的经验进行了讨论和总结。
二、超宽超窄矩形带通滤光片的设计（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、超宽超窄矩形带通滤光片的设计（论文提纲范文）
（1）基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.1.1 多光谱航天遥感技术 |
| 1.1.2 分光方式的发展 |
| 1.2 多通道滤光片研究现状 |
| 1.3 课题的主要工作 |
| 1.3.1 研究目的与内容 |
| 1.3.2 课题方案与技术路线 |
| 1.4 论文章节安排 |
| 2 相关理论基础与工艺技术 |
| 2.1 带通滤光片理论基础 |
| 2.2 真空镀膜原理 |
| 2.2.1 真空系统 |
| 2.2.2 薄膜沉积系统 |
| 2.2.3 膜厚监控系统 |
| 2.2.4 离子源系统 |
| 2.3 负性厚胶光刻技术 |
| 2.3.1 基片清洁 |
| 2.3.2 匀胶工艺 |
| 2.3.3 烘烤工艺 |
| 2.3.4 曝光工艺 |
| 2.3.5 显影工艺 |
| 2.4 剥离技术(lift-off)原理 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 带通滤光片的膜系设计 |
| 3.1 薄膜与基底材料优选 |
| 3.2 单层膜工艺实验 |
| 3.2.1 Ge单层膜工艺实验 |
| 3.2.2 ZnS单层膜工艺实验 |
| 3.3 膜系设计与优化 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 负性厚胶光刻优化实验 |
| 4.1 匀胶工艺优化实验 |
| 4.1.1 匀胶厚度的控制 |
| 4.1.2 边胶去除与匀胶程序设计 |
| 4.2 烘烤工艺优化实验 |
| 4.3 曝光工艺的优化 |
| 4.3.1 曝光时间对光刻胶台阶形貌的影响 |
| 4.3.2 曝光时间对光刻胶透过率的影响 |
| 4.4 显影工艺的优化 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 集成双通道滤光片的制备与测试 |
| 5.1 集成双通滤光片的制备 |
| 5.2 测试结果与分析 |
| 5.2.1 双通道滤光片光谱性能测试与误差分析 |
| 5.2.2 双通道滤光片接缝精度测试 |
| 5.2.3 双通道滤光片稳定性测试 |
| 5.3 本章小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（2）3D滤光片的设计与制备（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 技术背景 |
| 1.2 市场背景 |
| 1.3 国内外发展现状 |
| 1.4 论文的主要工作 |
| 第2章 薄膜光学的基础理论 |
| 2.1 周期对称膜系等效 |
| 2.2 滤光片膜系结构的类型 |
| 2.2.1 双截止组合的滤光片 |
| 2.2.2 法布里-珀珞结构滤光片 |
| 2.2.3 干涉截止滤光片 |
| 2.2.4 多半波滤光片 |
| 第3章 膜系设计与优化 |
| 3.1 设计指标要求 |
| 3.2 镀膜材料的选取 |
| 3.3 膜系设计思路 |
| 3.3.1 前表面膜系设计 |
| 3.3.2 后表面膜系设计 |
| 3.3.3 前后表面叠加 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 膜层的制备 |
| 4.1 镀膜设备 |
| 4.2 镀膜工艺及参数 |
| 4.2.1 镀膜参数的设置 |
| 4.3 镀膜的监控方式 |
| 4.4 镀膜软件 |
| 4.5 工艺流程 |
| 4.5.1 基片清洗 |
| 4.5.2 机台清洁 |
| 4.5.3 上料 |
| 4.5.4 成品下料工作 |
| 4.6 镀膜结果 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 性能检验 |
| 5.1 光学性能检测 |
| 5.2 可靠性检验 |
| 5.2.1 高温高湿 |
| 5.2.2 冷热循环测试 |
| 5.2.3 附着力测试 |
| 5.3 误差分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 全文总结 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 结论与未来工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间的研究成果 |
（3）多通道窄带滤光片的设计与制备技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 多通道窄带滤光片的研究现状 |
| 1.3 课题的主要工作 |
| 1.3.1 研究目的与内容 |
| 1.3.2 课题的方案与研究路线 |
| 1.4 论文的章节安排 |
| 1.5 本章小结 |
| 2 光学薄膜理论基础 |
| 2.1 光学薄膜的特性及基本原理 |
| 2.1.1 单层介质薄膜 |
| 2.1.2 多层介质薄膜 |
| 2.2 窄带滤光膜系的设计理论 |
| 2.3 多通道窄带滤光片的工作原理 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 窄带滤光片的设计与镀制 |
| 3.1 镀膜材料和基底的选取 |
| 3.2 单层薄膜工艺实验 |
| 3.3 窄带滤光片的设计 |
| 3.3.1 单通道窄带滤光片的设计 |
| 3.3.2 多通道窄带滤光片的设计 |
| 3.4 窄带滤光片减反射膜的设计 |
| 3.5 薄膜镀制 |
| 3.5.1 真空镀膜原理 |
| 3.5.2 设备 |
| 3.5.3 薄膜制备中的工艺参数 |
| 3.5.4 工艺过程 |
| 3.6 本章小结 |
| 4 纳米压印间隔层工艺研究 |
| 4.1 金属模具的设计加工与测试 |
| 4.1.1 金属模具的设计 |
| 4.1.2 金属模具的加工 |
| 4.1.3 金属模具的测试 |
| 4.2 PDMS模板图形转移工艺研究 |
| 4.3 间隔层材料工艺研究 |
| 4.3.1 厚度工艺研究 |
| 4.3.2 光学特性测试 |
| 4.4 压印制备阵列滤光片 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 测试结果与分析 |
| 5.1 显微光谱测试系统 |
| 5.2 样片测试 |
| 5.3 结果分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（4）基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 大曲率光学元件的应用背景 |
| 1.2.1 大数值孔径显微系统 |
| 1.2.2 碰撞锁模环形燃料激光器 |
| 1.3 光学薄膜常用制备方法 |
| 1.3.1 离子束溅射 |
| 1.3.2 电子束蒸发 |
| 1.3.3 磁控溅射 |
| 1.4 原子层沉积技术(ALD) |
| 1.4.1 ALD沉积机理 |
| 1.4.2 ALD应用背景 |
| 1.5 课题的提出及主要研究内容 |
| 2 ALD腔体气体浓度优化区域分析 |
| 2.1 ALD系统TFS-200 |
| 2.2 ALD反应腔模型建立 |
| 2.2.1 2D反应腔模型建立 |
| 2.2.2 3D反应腔模型建立 |
| 2.3 ALD反应腔气体浓度优化区域分析 |
| 2.3.1 2D反应腔气体分布情况 |
| 2.3.2 3D反应腔气体分布情况 |
| 2.4 直径10mm半球基底表面前驱体浓度变化过程 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 ALD均匀性实验的测量与结果 |
| 3.1 材料折射率 |
| 3.2 薄膜厚度的测量 |
| 3.3 2D反应腔均匀性性实验及结果 |
| 3.4 3D反应腔均匀性实验及结果 |
| 3.4.1 3D反应腔工艺参数 |
| 3.4.2 气流方向均匀性实验 |
| 3.4.3 高度方向上均匀性实验 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 ALD多层膜制备 |
| 4.1 单点减反射膜制备 |
| 4.1.1 平面基板单点减反射膜制备 |
| 4.1.2 半径5mm半球基底单点减反射膜制备 |
| 4.2 550～750nm宽带减反射膜制备 |
| 4.2.1 550～750nm宽带减反射设计 |
| 4.2.2 平面基板宽带减反射膜制备 |
| 4.2.3 直径10mm半球基底表面宽带减反射膜制备 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 总结与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 本文创新点 |
| 5.3 未来展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
（5）检测CO2气体用窄带滤光片设计与制备（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光学薄膜分类、应用 |
| 1.2 窄带滤光片发展过程及研究现状 |
| 1.2.1 窄带滤光片的发展过程 |
| 1.2.2 检测CO_2用窄带滤光片的研究现状 |
| 1.3 研究目的和意义 |
| 1.4 论文研究的主要内容 |
| 第二章 光学薄膜特性计算及设计理论 |
| 2.1 光学薄膜的特性计算 |
| 2.2 窄带滤过片设计理论 |
| 2.3 高反膜系设计理论 |
| 第三章 窄带滤光片的膜系设计及优化 |
| 3.1 基片和镀膜材料的选取 |
| 3.1.1 基片的选取 |
| 3.1.2 镀膜材料的选取 |
| 3.2 窄带滤光片设计中敏感度的影响因素研究 |
| 3.2.1 窄带滤光片的基本结构类型 |
| 3.2.2 影响窄带滤光片敏感度参数 |
| 3.2.3 窄带滤光片敏感度模拟实验分析 |
| 3.2.4 模拟实验结果验证 |
| 3.3 单通道窄带滤光片膜系设计及优化 |
| 3.3.1 基片A面设计 |
| 3.3.2 基片B面设计 |
| 3.3.3 AB面叠加 |
| 3.4 双通道窄带滤光片膜系设计及优化 |
| 3.4.1 基片A面设计 |
| 3.4.2 基片B面设计 |
| 3.4.3 AB面设计 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 单通道窄带滤光片的制备 |
| 4.1 真空镀膜原理 |
| 4.2 实验设备及组成 |
| 4.3 制备中的工艺参数 |
| 4.3.1 沉积温度 |
| 4.3.2 沉积速率 |
| 4.3.3 离子辅助沉积 |
| 4.3.4 热处理 |
| 4.3.5 蒸镀真空度 |
| 4.4 工艺流程 |
| 4.5 镀制结果 |
| 4.6 本章小结 |
| 第五章 窄带滤光片性能测试及误差分析 |
| 5.1 单通道窄带滤光片性能测试及误差分析 |
| 5.2 双通道窄带滤光片膜系误差分析 |
| 5.3 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在读学位期间发表的论文 |
（6）电子/质子综合辐照带通滤光片的性能退化机理研究（论文提纲范文）
| 0 引言 |
| 1 实验 |
| 1.1 实验材料 |
| 1.2 实验设备 |
| 1.3 实验方法 |
| 2 实验结果与讨论 |
| 2.1 实验结果 |
| 2.2 实验讨论 |
| 3 结论 |
（7）医用光学滤光片与可见光波段高反射膜的设计与制备工艺（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 引言 |
| 1.1 光学薄膜与现代光学系统 |
| 1.2 光学薄膜的发展历程及研究现状 |
| 1.3 研究目的和意义 |
| 1.4 本文内容结构 |
| 第2章 光学薄膜基本理论 |
| 2.1 电磁理论基础 |
| 2.1.1 麦克斯韦方程 |
| 2.1.2 波动方程的解 |
| 2.1.3 光学导纳 |
| 2.1.4 边界条件 |
| 2.2 薄膜反射率和折射率的计算 |
| 2.2.1 菲涅尔公式 |
| 2.2.2 单层介质膜的反射率 |
| 2.2.3 多层膜的计算 |
| 2.3 对称膜的等效层 |
| 第3章 医用窄带滤光片的设计与制备 |
| 3.1 滤光片膜系设计 |
| 3.2 滤光片镀制实验 |
| 3.2.1 射频溅射沉积镀膜工作原理简介 |
| 3.2.2 实验材料与仪器 |
| 3.2.3 膜厚监控系统的选择 |
| 3.2.4 镀制实验流程 |
| 3.2.4.1 实验基片的镀前清洗 |
| 3.2.4.2 沉积过程 |
| 3.3 测试结果与分析 |
| 3.3.1 实测曲线与设计曲线对比分析 |
| 3.3.2 滤光片吸潮测试 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 可见光波段高反膜的设计与制备 |
| 4.1 高反射膜的膜系设计 |
| 4.2 高反射膜的镀制与分析 |
| 4.2.1 实验所用的材料和设备 |
| 4.2.2 电子枪加热蒸发介绍 |
| 4.2.3 离子束辅助沉积介绍 |
| 4.2.4 薄膜沉积实验流程 |
| 4.2.5 Tooling参数对比实验 |
| 4.2.6 不同高折射率材料对比实验 |
| 4.3 本章小结 |
| 第5章 结论与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 工作展望 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间的研究成果 |
| 致谢 |
（8）宽通带宽截止带通滤光片研究（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 宽带通滤光片设计理论 |
| 3 膜系设计 |
| 4 工艺实现 |
| 5 结论 |
（9）光锥角对窄带滤光片透射率的影响及补偿方法（论文提纲范文）
| 1引言 |
| 2高斯光束倾斜入射对全介质窄带滤光片透射率的影响 |
| 3锥光束正入射时等效透射率的求解模型 |
| 4实验验证 |
| 5结论 |
（10）3.31μm窄带滤光片的设计与制备（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 目录 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究目的和意义 |
| 1.2 光学薄膜的发展现状 |
| 1.3 论文研究的主要内容 |
| 第二章 理论基础及特性计算 |
| 2.1 单一界面的反射率和透射率 |
| 2.2 单层介质膜的反射率 |
| 2.3 多层介质膜的反射率和透射率 |
| 第三章 膜系设计及优化 |
| 3.1 窄带滤光片的基本结构类型 |
| 3.2 膜系设计中通带半宽度、矩形度和陡度的影响因素研究 |
| 3.3 基底和膜层材料的选取 |
| 3.4 窄带滤光片的膜系设计和优化 |
| 第四章 窄带滤光片的制备 |
| 4.1 真空镀膜原理 |
| 4.2 实验设备及组成 |
| 4.3 制备中的工艺参数 |
| 4.4 工艺流程 |
| 4.5 镀制结果 |
| 第五章 性能测试及结果分析 |
| 5.1 光学性能测试 |
| 5.2 机械性能测试 |
| 5.3 误差分析 |
| 5.4 问题讨论及经验总结 |
| 结论 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
四、超宽超窄矩形带通滤光片的设计（论文参考文献）
- [1]基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究[D]. 张立宇. 西安工业大学, 2021(02)
- [2]3D滤光片的设计与制备[D]. 陈喜文. 南昌大学, 2021
- [3]多通道窄带滤光片的设计与制备技术研究[D]. 段营部. 西安工业大学, 2020(04)
- [4]基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究[D]. 来邻. 中国计量大学, 2018(01)
- [5]检测CO2气体用窄带滤光片设计与制备[D]. 侯海港. 江苏大学, 2017(01)
- [6]电子/质子综合辐照带通滤光片的性能退化机理研究[J]. 张剑锋,郭云,杨生胜. 真空与低温, 2016(04)
- [7]医用光学滤光片与可见光波段高反射膜的设计与制备工艺[D]. 王增智. 青岛大学, 2016(03)
- [8]宽通带宽截止带通滤光片研究[J]. 朱华新,王彤彤,高劲松,刘桂林,李帅. 人工晶体学报, 2014(05)
- [9]光锥角对窄带滤光片透射率的影响及补偿方法[J]. 张军强,王笑夷,张新洁,颜昌翔,张滨. 光学学报, 2014(01)
- [10]3.31μm窄带滤光片的设计与制备[D]. 贾钰超. 长春理工大学, 2013(08)